Fotoresist

Tegenwoordig is Fotoresist een onderwerp dat op verschillende gebieden van de samenleving veel wordt besproken en geanalyseerd. De impact ervan heeft verschillende gebieden bereikt, van gezondheid tot technologie, politiek en economie. Fotoresist heeft een reeks debatten en controverses voortgebracht die het belang van de studie en het begrip ervan hebben benadrukt. Door de jaren heen is Fotoresist geëvolueerd en aangepast aan de veranderingen en uitdagingen waarmee het te maken heeft gehad, waardoor het een interessant onderwerp is geworden voor zowel experts als hobbyisten. In dit artikel zullen we de verschillende aspecten en gevolgen van Fotoresist in detail onderzoeken, met als doel een complete en bijgewerkte visie te geven op dit onderwerp dat vandaag de dag zo relevant is.

Een fotoresist of fotolak is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:

• Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden worden door de ontwikkelvloeistof weggespoeld.
• Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.